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1200℃高校实验室坩埚炉

高校实验室坩埚炉集控制系统与炉膛体，其中炉膛保温材料采用整体真空吸附成型，加热元件采用硅钼棒。超大口径的石英炉腔和真空密封法兰系统，可在流动气氛和真空状态下快速加热样品。主要用于金属、非金属及化合物材料进行烧结、融化、分析。控制面板配有智能温度调节仪，控制电源开关、主加热工作/停止按钮，以便随时观察。1200℃高校实验室坩埚炉适用范围：该款坩埚熔化炉的各项指标均达到要求，主要用于煅烧真空或惰性气体?；は碌母叽慷然衔锘蚶┥氲继寰?，也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。产品名称120...

1400℃高校实验气氛炉

1400℃高校实验气氛炉是奥菲达仪器专为学校实验室心研制的气氛炉，产品具有合理的结构，升温快，操作简便等特点，实验气氛炉掺钼铁铬铝合金电阻丝为加热元件，采用真空成型工艺技术生产的进口无机纤维作为炉膛的保温材料和特殊的绝热设计。炉体采用双层炉壳结构，高性能隔热材料，并配有冷却风扇，使炉体外表面温度低,比普通窑炉节能60%。炉门、炉顶采用高温硅橡胶密封，炉门配备水冷系统。可预抽真空并可通入多种惰性气体。适用范围：实验气氛炉适用于高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、新材料...

实验室灰化炉

实验室灰化炉产品概述:实验室灰化炉广泛用于义齿加工行业，科研机构，氧化锆烧结等领域。实验室灰化炉特点：（1）工作温度：1100℃（短时间为1200℃）。（2）通过将腔室包围在具有热效率的氧化铝纤维陶瓷绝缘层中，可以实现大的能源效率。（3）三侧电阻丝线圈，用于快速均匀加热。（4）重型双层结构，带冷却风扇。外壳温度较低。（5）石英玻璃制成的直径为0.5英寸的观察窗，允许用户在加热操作过程中看到室内。（6）实验室灰化炉通过限流相角对电阻进行PID自动控制，例如SCR（硅控制整流器）...

1200℃三温区管式气氛炉

AFD三温区管式气氛炉以掺钼铁铬铝合金电阻丝为加热元件，三个加热区分别进行30段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、氧化碳、氨分解气等气体,具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。1200℃三温区管式气氛炉适用范围：主要应用于CVD实验，荧光粉制备，真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境.是各大材料...

1200℃立式管式气氛炉

AFD系列立式管式气氛炉的*设计能够实现在真空或气氛?；ぬ跫露匝房焖偕滴?，四面加热，温场更均匀，立式结构使得气体排放更加顺畅，炉体垂直安装在可移动支架上有利于炉管取放温度的均匀性，可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，特别适合薄膜生长、电测试、氧化物晶体生长、快速退火等实验需要！1200℃立式管式气氛炉适用范围：立式管式气氛炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CV...